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  • OTF-1200X-III-C沈陽科晶1200℃小型三(sān)溫(wēn)區開(kāi)啟式管式爐(lú)
    OTF-1200X-III-C沈陽科晶1200℃小(xiǎo)型(xíng)三(sān)溫區(qū)開(kāi)啟(qǐ)式管式爐(lú)

    沈陽科(kē)晶1200℃小型三(sān)溫(wēn)區(qū)開(kāi)啟式管(guǎn)式爐(lú)是一(yī)款加熱(rè)區為450mm (150+150+150mm)的(dí)開啟(qǐ)式三溫(wēn)區(qū)管式(shì)爐,其石英爐(lú)管(guǎn)的直徑(jìng)為25,, 50,60,80或100mm。三個(gè)溫(wēn) 區都(dū)由獨立的溫(wēn)控係統控製(zhì),可設(shè)置30段升(shēng)降(jiàng)溫(wēn)程序(xù),控溫(wēn)精(jīng)度(dù)為(wéi)+/- 1 ° C,高(gāo)溫度可達到(dào)1200°Co

    更(gēng)新時(shí)間:2024-11-07型號:OTF-1200X-III-C瀏(liú)覽量:1464
  • OTF-1200X-V沈陽(yáng)科晶1200℃五溫區獨立控製管式爐
    OTF-1200X-V沈陽(yáng)科(kē)晶(jīng)1200℃五溫區獨立控(kòng)製(zhì)管(guǎn)式(shì)爐

    沈(shěn)陽(yáng)科晶(jīng)1200℃五溫(wēn)區(qū)獨(dú)立控製(zhì)管式(shì)爐(lú)采(cǎi)用獨立(lì)的溫控(kòng)裝(zhuāng)置,可離開(kāi)爐(lú)體(tǐ)進(jìn)行(háng)溫(wēn)控操作,通(tōng)過調節各個溫(wēn)區的 溫度(dù),可以在加(jiā)熱區內(nèi)形(xíng)成四(sì)段溫度梯度,或形成(chéng)較長的恒(héng)溫(wēn)區(qū)域(yù)。本(běn)機(jī)具有控溫精度高(gāo),保溫(wēn)效果(guǒ)好,溫(wēn)度範圍大,溫度均(jūn)匀(yún)性(xìng)高(gāo),溫(wēn) 區多,可(kě)通氣氛抽真空(kōng)及(jí)安(ān)全可靠,操(cāo)作簡單(dān)等特(tè)點(diǎn)。

    更(gēng)新(xīn)時(shí)間(jiān):2024-11-07型號:OTF-1200X-V瀏覽(lǎn)量:1251
  • OTF-1200X-V沈(shěn)陽科晶(jīng)1200℃五溫(wēn)區開(kāi)啟式管式(shì)爐
    OTF-1200X-V沈陽(yáng)科晶(jīng)1200℃五(wǔ)溫(wēn)區(qū)開啟式管式(shì)爐(lú)

    沈陽(yáng)科(kē)晶(jīng)1200℃五溫區(qū)開啟(qǐ)式管式爐(lú)每個溫(wēn)區分(fēn)別由獨(dú)立的(dí)溫(wēn)控係統控(kòng)製,通(tōng)過(guò)調(tiáo)節(jié)各(gè)個(gè)溫區的溫(wēn)度(dù),可以(yǐ)在(zài)加熱(rè) 區內(nèi)形成(chéng)四段溫度梯(tī)度,或形成(chéng)較長的恒(héng)溫區(qū)域。本機(jī)用(yòng)於(yú)高(gāo)等(děng)院校(xiào),科(kē)研(yán)院所,工礦企業(yè)等實驗或(huò)小批量(liáng)生(shēng)產(chǎn),主要針(zhēn)對電(diàn)子陶(táo) 瓷的預(yù)燒(shāo),燒結,緩膜,高溫(wēn)熱(rè)解低(dī)溫沉積(CVD)等(děng)工藝(yì)。

    更新時間:2024-11-07型號:OTF-1200X-V瀏(liú)覽(lǎn)量:1323
  • OTF-1200X-Ⅲ沈陽科(kē)晶(jīng)1200℃三溫區開(kāi)啟式(shì)管式爐
    OTF-1200X-Ⅲ沈(shěn)陽科(kē)晶1200℃三(sān)溫(wēn)區開(kāi)啟(qǐ)式(shì)管式(shì)爐

    沈陽科晶(jīng)1200℃三(sān)溫區開啟式管式爐(lú)每(měi)個溫區分(fēn)別由獨立的(dí)溫控係統(tǒng)控(kòng)製(zhì),具有控(kòng)溫(wēn)精度高,保(bǎo)溫(wēn)效果(guǒ)好(hǎo),溫度(dù)範圍 大,溫度均(jūn)匀(yún)性高,溫(wēn)區(qū)多(duō)等(děng)特(tè)點。本機可(kě)通氣氛(fēn)抽(chōu)真空,操作(zuò)簡單(dān),安全(quán)可靠。

    更(gēng)新時間:2023-08-02型號:OTF-1200X-Ⅲ瀏覽(lǎn)量:1485
  • OTF-1200X-II沈陽科(kē)晶1200℃開啟(qǐ)式雙溫(wēn)區管(guǎn)式(shì)爐(lú)
    OTF-1200X-II沈陽科(kē)晶(jīng)1200℃開(kāi)啟(qǐ)式(shì)雙溫(wēn)區管式爐(lú)

    沈(shěn)陽科(kē)晶1200℃開啟(qǐ)式(shì)雙(shuāng)溫(wēn)區管式爐(lú)高溫度(dù)可達(dá)到1200P,並可(kě)通過(guò)調節(jié)兩個(gè)獨立(lì)的控(kòng)溫程(chéng)序(xù),使爐(lú)管內溫(wēn)度(dù)場形成(chéng) —梯(tī)度。本機可用CVD方法(fǎ)來(lái)生(shēng)長納米材料和製(zhì)作(zuò)各種(zhǒng)蒲(pú)膜。

    更(gēng)新(xīn)時間(jiān):2023-08-02型(xíng)號:OTF-1200X-II瀏覽量:1312
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